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技術文章
TECHNICAL ARTICLESCVD技術主要使用的設備是化學氣相沉積爐，該設備主要應用于各種CVD實驗，也可用于真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。化學氣相沉積是一種化工技術，該技術主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法。化學氣相淀積是近幾十年發展起來的制備無機材料的新技術。化學氣相淀積法已經廣泛用于提純物質、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態無機薄膜材料。這些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-...
高溫管式爐可開啟式高溫爐內膽輕質高溫纖維材料制作，有兩個半圓形爐體合成，開啟方便，可分為立式臥式，可安裝在爐架上，或根據需要將爐體安裝在其他工作臺面，爐體與控制器制成為一體化也可做為分體式。它具有多達32段升溫程序功能，只需開通電源設置程序，機器即自動工作，工作完畢自動關機；儀器操作方便，升溫速度快，升溫速度可調，外形輕巧。主要用途：廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業做粉末焙燒、陶瓷燒結、高溫實驗、材料處...
真空管式爐如果長時間不使用或者用的年數多了，難免會出現一些故障，下面簡單介紹一下真空爐常見的故障，與對應的處理方法。一、電器故障（一）溫度異常，包括溫度過高報警、或顯示溫度達不到設定值。（1）溫度過高報警故障解除方法：1．首先檢查所在工作區溫控器參數是否正常，參考其他正常使用中的溫控器校對所有參數。2．根據電路圖檢查相應工作區的固態繼電器輸出端是否被擊穿，具本方法：停電后，用萬用表電阻檔測量固態繼電器輸出端兩點之間的電阻，正常時，電阻會有幾兆歐以上，如果被擊穿，則幾乎沒有電阻...
氣氛燒結爐為石墨加熱、周期作業式，采用石墨管為發熱元件，適用于金屬材料、無機非金屬材料在真空或保護氣氛下進行燒結之用。也可用于光學材料的焙燒提純之用。1、窯爐內的還原氣氛不同的燃燒氣氛，會導致粘土中的鐵氧化物變價，使制品燒成后會產生各種顏色的制品。使燒成后磚瓦呈現紅色外觀的內在因素是三氧化二鐵；能決定外觀顏色的還有另外一個因素，就是焙燒階段的燃燒氣氛在起作用。低溫下的三氧化二鐵呈穩定的棕紅色。而在焙燒溫度（比如1000℃）不變、三氧化二鐵含量不變的情況下，高溫下的三氧化二鐵就...
壓力燒結爐適用于氮化硅、硬質合金等材料在高壓氮氣氣氛內進行燒結。有利于增加材料的燒結密度，提高材料的機械性能。燒結爐具有優良的組織結構、強度和密度。可以實現連續差壓脫脂、真空燒結和加壓燒結工藝;具有氣氛調節功能，爐內氣氛穩定，產品質量易于控制;爐內分壓控制，實現恒壓燒結。為了保證粉末壓坯在燒結過程中的脫蠟（潤滑劑或成形劑）、還原、合金化、組織轉變等順利進行，燒結時需要對燒結溫度、保護氣氛、壓坯傳送方式、加熱和冷卻速度等進行控制。因此，燒結爐在結構上應滿足以下要求：(1)具有完...
CVD管式爐由管式爐+真空系統+供氣系統組成，大溫度可以達到1200度，可以是單溫區、雙溫區、三溫區等，真空可以達到10-3Pa，供氣系統是流量調節可以是質子流量計或浮子流量計，混氣路數可以是2路、3路、4路、5路相混合。CVD管式爐產品特點：1、控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。2、氣路快速連接法蘭結構采用本公司知識產權設計,提高操作便捷性。3、中真空系統具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統采用高壓強，耐沖擊分子...
PECVD系統就是為了使傳統的化學氣象沉積反應溫度降低，普通CVD設備的沉積溫度大多在900℃左右，而在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應裝置將反應氣體電離，形成等離子體，利用等離子體的活性來促進反應，可以使化學氣相沉積的溫度降到400℃左右，所以這個系統稱為增強型化學氣相沉積系統。PECVD綜合了國內大多數廠家的PECVD系統的優點，觸摸屏集中一鍵控制，實驗證明此結構沉積速度快，成膜質量好，針孔較少，不易龜裂。而且控制部分采用了自主研發的實驗電爐AIO全自動智能控制系統，...
管式電爐的爐管是其重要的關鍵的部件，也是生產試驗過程中的反應場所，工作區域。并且爐管與氣體，壓力及操作方法都有直接關系。因此管式電爐用過程中一定要注意石英管的使用和維護：1、石英管軟化的軟化點，持續限值不宜使用過長。2、石英管的耐溫度與其純度有關系，純度越高，耐溫就越高。3、保持爐管內清潔衛生，爐管內不能殘留與SiO2反應的物質，燒物料時，為了使爐管的使用壽命更長，不要直接把物料放在爐管上，用舟型坩堝盛著。4、加熱時爐管內請務必放陶瓷爐塞，否則爐管兩端溫度較高，法蘭里的O型圈...
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