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氣氛對硅鉬棒的影響

氣氛對硅鉬棒的影響1、二硅化鉬電熱元件（硅鉬棒）是一種以二硅化鉬為基礎制成的電阻發(fā)熱元件，其在氧化氣氛下高溫使用，表面?；梢粚庸饬林旅艿氖ⅲ⊿iO2）玻璃膜，能保護硅鉬棒不再氧化，因此硅鉬棒元件具有*的高溫抗氧化性。在氧化氣氛下，元件zui高使用溫度為1800℃，根據(jù)用戶需求可制成棒狀，U型、W型、U型直角等形狀。硅鉬棒通?？墒褂玫臓t體溫度為1300℃-1800℃，廣泛應用于冶金、玻璃、陶瓷、磁性材料、耐火材料、晶體、電子元器件、窯爐制造等領域、工業(yè)高溫爐的加熱元件,...

氣氛對硅碳棒的影響

氣氛對硅碳棒的影響硅碳棒為非金屬電熱元件,是用高純度綠色六方碳化硅為主要原料,按一定料比加工制坯,經2200℃高溫硅化再結晶燒結而制成的棒狀非金屬高溫電熱元件.正常使用溫度可達1450℃,合理使用條件下,連續(xù)使用超過2000小時,在空氣中使用,不需要任何保護氣氛.硅碳棒用途:由于硅碳棒使用溫度高,具有耐高溫、抗氧化,耐腐蝕、升溫快、壽命長、高溫變形小、安裝維修方便等特點。有良好的化學穩(wěn)定性。若與自動化供電系統(tǒng)配套,既可得到的恒定溫度,又可根據(jù)生產工藝的實際需要按曲線自動調溫。...

CVD（Chemical Vapor Deposition, 化學氣相淀積）

CVD試驗CVD（ChemicalVaporDeposition,化學氣相淀積），指把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜的過程。在超大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。經過CVD處理后，表面處理膜密著性約提高30%，防止高強力鋼的彎曲，拉伸等成形時產生的刮痕。CVD特點：淀積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與淀積時間成正比，均勻性，重復性好，臺階覆蓋性優(yōu)良。

真空熱處理爐的節(jié)能技術

真空熱處理爐的節(jié)能技術空熱處理爐是一種先進的熱處理設備可以進行金屬材料和工件的真空加熱、淬火、回火、退火、滲碳、滲氮、加壓氣淬等各種熱處理，也可進行粉未冶金燒結、航空航天工件釬焊等，真空熱處理過程能使被處理材料和工件性能顯著提高，材料得到充分利用。**因而，廣義上真空爐是一種明顯節(jié)省單位能的先進的熱處理設備。選用適當?shù)臓t爐室內加熱元件和隔熱材料，對于減少爐子本身能耗、提高加熱效率是有重要意義的。加熱元件一般情況可采用鎳鉻合金或鐵鉻合金，工兒溫度要求1000℃以上時，應采用鉬、...

感應加熱技術的多種應用

感應加熱技術的多種應用感應加熱是利用電磁感應的方法使被加熱的材料（即工件）的內部產生電流，依靠這些渦流的能量達到加熱目的。感應加熱系統(tǒng)的基本組成包括感應線圈、交流電源和工件。根據(jù)加熱對象不同，可以把線圈制作成不同的外形。線圈和電源相連，電源為線圈提供交變電流，流過線圈的交變電流產生一個通過工件的交變磁場，該磁場使工件產生渦流來加熱。感應加熱是伴隨著汽車工業(yè)和拖拉機工業(yè)的誕生而起步的。由于其具有加熱效率高、速度快、可控性好及易于實現(xiàn)機械化和自動化等優(yōu)點。目前常用的zui有效的熱...